在许多镀膜工艺中（例如：金属、塑料或玻璃以蒸汽形态沉积），真空技术扮演着决定性的作用。在很多情况下，离开真空，就无法实现这些工艺。一般在工艺开始之初，对腔室施加中度或高度真空，以便真空排气，再抽除反应气体或者气化固体原材料。

这些镀膜工艺都有一个共同的要求：腔室必须保持完全符合镀膜工艺要求的中度或高度真空。这些镀膜工艺有助于改变材料的表面特征，例如硬度或耐腐蚀性。此外，真空镀膜也可以改善材料的附着性或湿润性，或者让材料表面保持永久疏水性或亲水性。

我们的真空系统可以为以真空为基础的镀膜工艺量身定制。

晶茂 的哪些真空解决方案尤其适合镀膜工艺？

我们提供大量不同的镀膜工艺真空解决方案，除了独立式真空泵，也供应全套真空系统。及真空镀膜设备，如真空机组特别适用于镀膜工艺，实践证明，旋片结合罗茨真空泵是中度真空镀膜应用的标准解决方案。我们提供各种型号的变距 COBRA 螺杆真空泵和罗茨真空泵，使真空系统的设计完全达到镀膜工艺的要求。如果需要高度真空，我们有涡轮分子真空泵和 扩散真空泵，将这类泵与前级泵组合即可满足镀膜工艺要求。

晶茂真空技术在镀膜工艺中的应用范例：

物理气相沉积（PVD）

化学气相沉积（CVD )

等离子增强沉积

金属镀膜

CMARCa技术

CVA技术

溅射技术

TETRABOND技术

激光硬化工艺

HIPIMS和HIPIMS

PACVD技术

类金铡石DLC涂层

PVD不锈钢色板

硬质涂层参数

光学薄膜参数

更多应用您是否想了解

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